6月26日晚间，半导体领域的热门公司拓荆科技（688072）发布公告，称正筹划通过发行股份加现金的方式，拿下无锡尚积半导体科技股份有限公司（简称“无锡尚积”）的控股权，同时募集配套资金。公司股票从6月29日（星期一）开市起停牌，预计停牌时长不超过10个交易日。
拓荆科技透露，公司已与标的公司股东王世宽、夏小军、上海泰纳微企业管理有限公司、无锡芯聚管理咨询合伙企业（有限合伙）、无锡宽行企业管理有限公司、无锡芯智管理咨询合伙企业（有限合伙）签了《股权收购意向协议》。这个协议只是各方对本次交易的初步意向，具体方案得等后续正式协议来定。
无锡尚积成立于2021年6月，注册资本2166.45万元，法定代表人王世宽，主业是半导体薄膜沉积与刻蚀设备的研发、生产和销售，产品涵盖PVD（物理气相沉积）、ETCH（刻蚀）、CVD（化学气相沉积）等核心半导体设备。
无锡尚积的前身是上海松尚国际贸易有限公司，主要做设备进出口代理。2021年6月，王世宽团队带着“全国产化PVD设备”项目拿到无锡“太湖杯”创业大赛优胜奖，随后把核心业务搬到无锡高新区，无锡尚积就这样成立了。
公司官方微信公众号显示，2025年1月3日，无锡尚积宣布更名为股份公司。2025年10月，按工业和信息化部第七批专精特新“小巨人”企业认定安排，江苏省工信厅公示了入选名单，无锡尚积凭借自研的12英寸PVD磁控溅射、特种PECVD设备核心技术，成功入选，成为区域集成电路装备产业链强链补链的代表企业之一。
爱企查数据显示，无锡尚积至今已完成7轮融资，仅2025年就搞定了B轮、C轮、Pre-IPO轮。其中，Pre-IPO轮融资额超3亿元，投资方包括中车资本、江苏战新投、广州产投、国信弘盛、穗开投资、华强资本、巨石创投、宿迁产投、君联资本、锡创投等。
拓荆科技是国内半导体薄膜沉积设备领域的龙头企业，主营薄膜沉积设备和三维集成设备，已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD等薄膜沉积设备产品，以及晶圆对晶圆混合键合、晶圆对晶圆熔融键合、芯片对晶圆混合键合等三维集成设备，广泛用于逻辑芯片、存储芯片、功率器件、Micro-OLED、硅光技术、图像传感器（CIS）等领域。
在薄膜沉积设备方面，拓荆科技的PECVD系列设备2025年实现了51.42亿元营收，同比涨了75.27%。
公开资料指出，薄膜沉积设备在前道晶圆制造设备市场中的价值占比约22%，和刻蚀设备并列，仅次于光刻机。
从全球看，逻辑芯片制程升级、存储芯片堆叠层数增加、新工艺的应用，让薄膜沉积设备、刻蚀设备在产线中的占比和价值逐步提升，全球薄膜沉积设备、刻蚀设备市场规模会保持稳定增长。
Maximize Market Research数据显示，全球薄膜沉积设备整体规模稳步增长，2023年市场规模为260亿美元，预计到2029年能到559亿美元。薄膜沉积设备市场中，PECVD份额占33%，其余占比较大的设备有PVD（19%）、ALD（11%）、管式CVD（12%）等。
Mordor Intelligence数据统计显示，2024年全球半导体刻蚀设备市场规模预计为238亿美元，到2029年预计增至343.2亿美元，年复合增长率为7.60%。干法刻蚀占了全球市场份额的95%以上，主要分为电容耦合等离子体刻蚀（CCP）和电感耦合等离子体刻蚀（ICP）。
正因为市场体量巨大且稳步增长，薄膜沉积设备、刻蚀设备成了国内头部半导体设备公司争抢的对象，纷纷把业务往这些领域拓展。
目前，做薄膜沉积设备业务的上市设备公司包括拓荆科技、北方华创、微导纳米、中微公司、盛美上海等；做刻蚀设备业务的上市公司有中微公司、北方华创、屹唐股份、盛美上海、至纯科技等。
这样看来，拓荆科技收购无锡尚积至少有两层意义：一是补全产品线，壮大薄膜沉积设备业务板块，进一步抢市场份额；二是借此进入刻蚀设备市场，抬高公司所在赛道市场规模的天花板。
拓荆科技年内累计涨幅超150%，总市值达2352亿元。最新股价报832元/股。
作者：李兴彩